For citations:

Karandashev Ya.M., Teplov G.S., Keremet V.V., Karmanov A.A., Kuzovkov A.V., Malsagov M.Yu. Application of Various Neural Networks Architectures for Mask Calculation in Problem of Inverse Photolithography. МАТЕМАТИЧЕСКОЕ И КОМПЬЮТЕРНОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ СЛОЖНЫХ СИСТЕМ: ТЕОРЕТИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ АСПЕКТЫ. 2022;12(4):73-80. (In Russ.)