Preview

Труды НИИСИ

Расширенный поиск
Полноэкранный режим

Для цитирования:


Масальский Н.В. Чувствительность распределения потенциала в канале кремниевых GAA нанотранзисторов к аномальному поведению зернистости металлического затвора. Труды НИИСИ. 2024;14(4):47-53.

For citation:


Masalsky N. Sensitivity of the Potential Distribution in the Channel of Silicon GAA Nanotransistors to the Anomalous Behavior of the Metal Gate Grain. SRISA Proceedings. 2024;14(4):47-53. (In Russ.)

Просмотров PDF (Rus): 5


Creative Commons License
Контент доступен под лицензией Creative Commons Attribution 4.0 License.


ISSN 2225-7349 (Print)
ISSN 3033-6422 (Online)